EVANANO TECH CO., LTD
奈極儀器有限公司
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產品資訊
小型高精度工件台
系統介紹
技術參數
曝光面積(XY行程)
≧ 30 X 30 mm
工件台定位精度
80 nm
工作台測量精度
20 nm
樣品尺寸
≧
1 英吋晶片
掃瞄場尺寸
達到100 um 或更大,場大小可以數字方式任選
拼接精度
≦ 140 nm
套刻精度
≦
140 nm
透過與掃瞄電子顯微鏡(SEM)搭配,不僅可用於電子束加工離子束加工和激光直寫加工等應用,並可大大擴大電子束曝光系統的功能和使用範圍。
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